Окинава Фан ва Технология Институти (OIST) профессори Тсумору Шинтаке ASML сканерларига қараганда анча арзон бўлган сезиларли даражада соддалаштирилган EUV-литография воситасини ишлаб чиқди.

У таклиф қилган литографик тизим олтита ўрнига иккита ойнадан фойдаланади. Агар қурилма оммавий ишлаб чиқаришга кирса, у бутун яримўтказгич саноати бўлмаса, чип ишлаб чиқариш ускуналари саноатини ўзгартириши мумкин.

Янги тизим оптик проекцияни созлашда фақат иккита ойнадан фойдаланади, бу анъанавий олти ойнали конфигурациядан сезиларли даражада фарқ қилади. Янги қисқароқ оптик йўл бошланғич EUV энергиясининг 10 фоиздан ортиғини пластинкага етиб боришига имкон беради, ҳозирда фойдаланилаётган қурилмаларда бу кўрсаткич тахминан 1 фоизга тенг, бу катта ютуқдир.

Таклиф этилаётган ечимнинг асосий афзалликларидан бири бу ишончлиликни ошириш ва ускунага техник хизмат кўрсатиш қулайлиги. Ушбу дизайннинг бир хил даражада муҳим афзаллиги энергия сарфини тубдан камайтириш эди. Оптималлаштирилган оптик йўл туфайли тизим атиги 20 Вт қувватга эга ЭУВ ёруғлик манбасидан фойдаланади ва умумий қувват истеъмоли 100 кВт дан кам, бу анъанавий EUV-литография тизимларининг талабидан пастроқ бўлган тартибдир. Энергия сарфини камайтириш туфайли совутиш тизими ҳам соддалаштирилган ва арзонроқ.

Янги тизимнинг ишлаши оптик симуляция дастурлари ёрдамида кенг қамровли синовдан ўтказилди, бу унинг илғор яримўтказгичларни ишлаб чиқариш қобилиятини тасдиқлади. Олимлар патент олиш учун ариза беришди, бу эса янги технологиянинг тижорий татбиқ этишга тайёрлигини кўрсатмоқда. Ишлаб чиқувчилар янги EUV-литография тизимини қувват сарфини ва чипларни ишлаб чиқаришнинг бошқа харажатларини камайтириш йўлидаги муҳим қадам сифатида кўришмоқда, бироқ янги сканернинг тижорат эксплуатацияси бошланишининг аниқ саналари ҳали эълон қилинмаган.

Глобал EUV-литография бозори 2024 йилдаги 8,9 миллиард доллардан 2030 йилга келиб 17,4 миллиард долларгача ўсиши кутилмоқда.